高纯气体选用技巧，追求最佳性价比达到工艺要求

随着科学技术的发展，对各种原材料的“纯度”要求越来越高。然而，高纯度气体通常提供更少的数量和更昂贵的价格。因此，如何正确合理地提出原料气体的纯度要求，如何选择高纯度气体，已成为一个值得探讨的问题。正确处理这一问题将对技术和经济产生深远影响。
一般来说，人们通常用百分比浓度来表示气体的纯度，也就是所谓的“9”字来表示。例如，某种气体的浓度是99。．9％，表示杂质含量为0.1%(即杂质含量为1000pm)。根据一般概念，浓度明显为99.995。％的气体比99．99％气体更纯净，人们似乎可以更放心地使用它。然而，如果在选择纯度时考虑到这一点，将对科学研究或生产产生不利影响。如果我们只考虑这一点，我们显然忽略了高纯度气体价格和杂质危害的两个主要因素。
众所周知，气体纯度越高，价格就越高，随着“9字数”的增加，价格比指数上涨得更快。
除了实验室提供的部分，在一般工业生产中很难获得7种以上“9”的超高纯气体。因此，在经济上，纯追求“9”字数的纯气体在一般生产中是不可接受的，除了在科学研究中有条件地接受之外。
因此，我们应该从气体中杂质浓度和杂质对过程危害的角度来选择使用高纯度气体。这是因为很难将气体中的杂质总量降低到LPPM以下，但很难将单个有害杂质降低到LPPM以下。×有可能达到10-9或更低的水平。根据目前的工艺水平，硅中杂质的总含量不得低于10-8(1ppm)，但有害电活性杂质磷和硼的单一控制已达到10-8。×10-8～l×10-10。(即O.1～O.O1ppb)的水平。
因此，国外不再只使用几种“9”来表达高纯度气体，而是直接用不同的用途来命名高纯度气体的水平。如光谱纯度、原子能水平、电子水平、半导体水平、太阳能电池水平、延伸水平、VLSI水平（超大型集成电路水平）、研究水平。它们只代表该级别的材料适用于某个平台，并不意味着其杂质平台的数量必须小于某个值。正如化学试剂通常分为G一样。．R．、A．R．、c．P．三个层次只意味着他们的纯度已经达到了“优秀”、“可分析使用”、“仅用于一般化学试剂”并不一定意味着某些材料或试剂的杂质总含量已经降低到一定数量级。不同层次的不同材料或试剂有时含有多种杂质。根据用途选择材料的纯度可以使我们在选择材料时更有针对性，克服盲目性。