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了解四氟化碳气体在硅片刻蚀中的高效能力

了解四氟化碳气体在硅片刻蚀中的高效能力

  • 分类:产品知识
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  • 发布时间:2024-03-08 09:51
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【概要描述】四氟化碳气体在微电子工业中被广泛应用于蚀刻技术,包括晶圆制造、太阳能电池板制造和线路板制造。纽瑞德是一家专注于高纯四氟化碳气体供应的制造商。需要高纯四氟化碳气体的客户可以联系武汉纽瑞德供应商。

了解四氟化碳气体在硅片刻蚀中的高效能力

【概要描述】四氟化碳气体在微电子工业中被广泛应用于蚀刻技术,包括晶圆制造、太阳能电池板制造和线路板制造。纽瑞德是一家专注于高纯四氟化碳气体供应的制造商。需要高纯四氟化碳气体的客户可以联系武汉纽瑞德供应商。

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了解四氟化碳气体在硅片刻蚀中的高效能力

四氟化碳

四氟化碳气体,化学型CF4,常温常压下无色气体,不溶于水,溶于苯和氯仿。主要用于微电子工业,用作等离子蚀刻气体。具体来说,可用于蚀刻硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃、钨等薄膜材料。广泛应用于电子设备表面清洁、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷等领域。此外,四氟化碳还用于激光气体、低温制冷剂、溶剂、润滑剂等各种集成电路的等离子蚀刻工艺。
逐瓶检验

对四氟化碳气体蚀刻用途的深入解释。


特殊气体是高科技、高附加值的产品,纯度、成分、有害杂质含量最高,产品包装和储存要求极其严格。目前,半导体行业有110多种特殊气体,20-30种常用气体,原材料需求占14%,仅次于大硅片。因此,随着国内半导体行业的快速扩张,对四氟化碳气体的需求也在增加。

品质保障
聚四氟化碳气体是微电子制造中常用的蚀刻气体,具有高效的蚀刻能力。在等离子体表面处理设备中,聚四氟化碳电离后会产生含氢氟酸的蚀刻气相等离子体,能有效去除各种有机表面的有机物,蚀刻等离子体。

在晶圆制造业中,光刻机利用四氟化碳气体对硅片进行线路蚀刻。同时,等离子体清洗机利用纯四氟化碳气体或四氟化碳气体与氧气配合,在晶圆制造中用微米级蚀刻氮化硅,或用四氟化碳气体与氧气或氢气配合去除微米级光刻胶。
国家标准
此外,四氟化碳气体也广泛应用于太阳能电池板制造领域。例如,它可以用来蚀刻硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和钨。

在电路板制造业中,四氟化碳气体也常用于蚀刻二氧化硅、氮化硅和其他介质材料。氟化碳和其他氟化物是高电场下的主要蚀刻气体,成为等离子体和自由季节。(Radical),然后,自由基和二氧化硅反应完成蚀刻。

四氟化碳制造商武汉纽瑞德特种气体长期供应四氟化碳气体(四氟化碳、全氟化碳)。四氟化碳制造商销售高纯度四氟化碳气体。四氟化碳气体的价格可以根据需要定制,并用钢无缝钢瓶包装?寻找400-6277-838的纽瑞德气体。

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