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四氟化碳

四氟化碳

分子式:
CF4
分子量:
产品分类:
电子气体
产品纯度:
99.999%
包装说明:
钢瓶
充装压力:
阀门型号:
CAS:
75-73-0
充装量:
四氟化碳
产品描述
应用领域
产品优势
联系方式

纽瑞德特气高纯四氟化碳相关参数


  产品名称:四氟化碳 四氟化碳气体 四氟甲烷 全氟化碳
  产品等级:分析纯
  产品纯度:99.999%
  包装规格:40L
  英文名称:carbon tetrafluoride
  英文别名:Tetrafluoromethane
  CAS:75-73-0
  EINECS:200-896-5
  分子式:CF4
  分子量:88
  物化性质:- 熔点:-184℃

 

高纯四氟化碳充装标准


 

序号 名称 化学式 纯度(%) 压力(Mpa) 充装量(m3/kg) 阀门|螺纹出口  钢瓶容积(L) 钢瓶尺寸(cm) 钢瓶皮重(kg)
1 四氟化碳/R14 CF4 99.999 4 28公斤 PX-32|G5/8 40 29×145 50
2 四氟化碳/R14 CF4 99.999 4 30公斤 CGA580 44 29×145 53
3 四氟化碳/R14 CF4 99.999 4 5公斤 PX-32|G5/8 8 22×70 10
 

四氟化碳合成方法


  1.由碳与氟反应,或一氧化碳与氟反应,或碳化硅与氟反应,或氟石与石油焦在电炉里反应,或二氟二氯甲烷与氟化氢反 应,或四氯化碳与氟化银反应,或四氯化碳与氟化氢反应,都能生成四氟化碳。四氯化碳与氟化氢的反应在填有氢氧化铬的高温镍管中进行,反应后的气体经水洗、 碱洗除去酸性气体,再通过冷冻,用硅胶除去气体中的水分,最后经精馏而得成品。
 
  2.预先称取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉,置于镍盘中,使硅和碳化硅充分接触后,将镍盘放入蒙乃尔 合金反应管中,向反应管内通入氟气,氟气先和单质硅反应,反应放热后,氟开始和碳化硅进行反应,通入等体积的干燥氮气以稀释氟气,使反应继续进行,生成气 体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝,然后慢慢地气化后,将其通过装有氢氧化钠溶液的洗气瓶除去四氟化硅,随后通过硅胶和五氧化二磷干燥塔得到最终产品。
 
  3.以活性炭与氟为原料经氟化反应制备。在装有活性炭的反应炉中,缓缓通入高浓氟气,并通过加热器加热、供氟速率和 反应炉冷却控制反应温度。产品经除尘,碱洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进 行间歇粗馏,通过控制精馏温度,除去O2、N2、H2,得到高纯CF4。
 

 

 

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应用领域

四氟化碳产品用途


  四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子烛刻气体,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体。

  1. 可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。对于硅和二氧化硅体系,采用CF4-H2反应离子刻蚀时,通过调节两种气体的比例,可以获得45:1的选择性,这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。

  2. 在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、
泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。

  3. 由于化学稳定性极强,CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。

  4. 四氟化碳的溶氧性很好,因此被科学家用于超深度潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功,在275米到366米的深度内,小白鼠仍可安全脱险。

 

产品优势

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