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三氟化氮

分子式:
NF3
分子量:
产品分类:
电子气体
产品纯度:
99.999%
包装说明:
钢瓶
充装压力:
阀门型号:
CAS:
充装量:
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武汉纽瑞德特种气体公司常年供应高质量三氟化氮气体,欢迎各界前来与三氟化氮生产厂家洽谈最新市场价格!我司三氟化氮全球服务专线(400-6277-838)!

 

三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体,是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体,在离子蚀刻时裂解为活性氟离子,这些氟离子对硅和钨化合物,高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性(对氧化硅和硅),它在蚀刻时,在蚀刻物表面不留任何残留物,是非常良好的清洗剂,同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。

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应用领域

三氟化氮(NF3)的主要应用


IC方面:由于作为半导体工业中气体清洗剂的全氟烃(PFC)对环境有害,近年来有逐渐被三氟化氮(NF3)取代之势。了解更多电子特气请关注微信gasgroup使用NF3作为化学蒸气沉积(CVD)箱清洗剂,与全氟烃相比,可减少污染物排放量约90%,且可显著提高清洗速度,从而可提高清洗设备能力约30%。

LCD方面:NF3还可用作蚀刻剂,也用于液晶显示器(LCD)的加工。为此,近年来NF3需求量急剧增长,90年代中期全球年用量不到46t, 2013年为5100吨。为满足日益增长的需求,世界各生产商均在积极扩大生产能力,预计每年将继续增长约15%。但是三氟化氮(NF3)的GWP值高达10 800,今后的发展可能会为此受到一定的限制。

太阳能电池:NF3作为蚀刻和清洗气体也在太阳能电池制造行业广泛应用。

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