三氟化氮

分子式:

NF3

分子量:

产品分类:

电子气体

产品纯度:

99.999%

包装说明:

钢瓶

充装压力:

阀门型号:

CAS:

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三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。

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应用领域

三氟化氮（NF3）的主要应用

IC方面：由于作为半导体工业中气体清洗剂的全氟烃(PFC)对环境有害,近年来有逐渐被三氟化氮(NF3)取代之势。了解更多电子特气请关注微信gasgroup使用NF3作为化学蒸气沉积(CVD)箱清洗剂,与全氟烃相比,可减少污染物排放量约90%,且可显著提高清洗速度,从而可提高清洗设备能力约30%。

LCD方面：NF3还可用作蚀刻剂,也用于液晶显示器(LCD)的加工。为此,近年来NF3需求量急剧增长,90年代中期全球年用量不到46t, 2013年为5100吨。为满足日益增长的需求,世界各生产商均在积极扩大生产能力,预计每年将继续增长约15%。但是三氟化氮(NF3)的GWP值高达10 800,今后的发展可能会为此受到一定的限制。

太阳能电池：NF3作为蚀刻和清洗气体也在太阳能电池制造行业广泛应用。